一、早春在保护地进行多层履盖提早栽培，可提早上市，提高效益。 在北京温室可在12月中下旬播种，2月底-3月上中旬定植，必须采用3-5层膜覆盖，以防寒保温，加大幼苗期昼夜温差，以降低雌花节位，否则节位偏高，不易座瓜。也可进行大棚秋延后栽培，在北京大棚可在6月底-7月中下旬播种，温室可拖后在8月中旬播种。

　　二、适当稀植，多蔓整枝，一秧多瓜。 目前国内推广的花皮椭圆小型西瓜大多在甩蔓后生长势偏旺，同时为提高产量需一秧多瓜，因此必须适当稀植。建议爬地栽培定植。密度450-600株667m2左右，不宜超过700株。定植架栽培为1200株/667m2左右，不宜超过1500株。定植密度过大，易造成疯秧，不易座瓜。定植缓苗后，去掉主蔓生长点，4-6蔓整枝，由于已去掉主蔓，侧蔓的雌花几乎可同时开花，集中在几天内授粉，单株可座果3-4个。侧蔓从第二个花开始授粉，通常第三、四个花座果。按平均单瓜重1.5kg计算，每667m2仍可达到3000kg以上的产量，与“福来喜”相比减产不多，但单价可提高50-100%以上，增效显著。

　　三、合理进行肥水与温度管理，以提高座瓜率，保证高品质。 由于小型西瓜生长势旺，一秧多瓜，因此需要充足的养分。每667m2需施2500kg以上的有机肥，30kg的复合肥。生产上常会遇到“安琪儿”座瓜较“福来喜”要难的情况，在栽培中需要加以注意。甩蔓期间需提早浇肥水即打掉主蔓生长点，4-6侧枝出齐后，即可浇水，水量也不宜过大，同时不要翻沟后浇水，以免畦沟吃水过多，开花前与座果期间需严格控秧与肥水管理，以防跑秧。座果期间应保持土壤湿度在40-50％左右，保持适当棚内温度，适宜的温度为白天25-28℃，夜间为18℃,过高或过低的温度都不适宜座瓜。小型西瓜在低温下雄花的花粉少，需要用其他大果型品种的雄花授粉，以利于座果。也可采用座瓜灵等药剂辅助座瓜。出现跑秧，不仅座瓜推后，采收推迟，而且西瓜型不周正，果偏大，皮厚，空心，纤维多，这是种植中需要严格把握的重要环节。待大部分植株果实座住果后，需及时追肥水，采收期前应严格控制水分，以提高品质。

　　四、提倡进行二茬瓜栽培以提高产量与效益。 在温室或大棚进行小型西瓜的栽培能提早上市，仍有较长时间生长，同时“安琪儿”生长势旺，抗叶部病害，有进行二茬瓜栽培的潜力。进行二茬瓜栽培的方法，一是可利用原有的老蔓在收瓜后继续座瓜，二是收瓜后剪掉老蔓（在收瓜部位剪断，不需将蔓拉出以免损伤植株），用基部憋出的侧蔓来座瓜。前者采收快但产量无保护且品质差，后者易管理，产量高，品质好，只是采收期稍晚。进行二茬瓜栽培，在第一茬瓜采收后要加强肥水，防治病虫害。一般第一茬瓜收获，后30-40天即可采收二茬瓜，其产量并不低于头茬瓜，增效十分显著。